Reator para deposição de filmes, equipado com fontes DC, RF, HiPIMS e DC pulsada; bombas de vácuo mecânica e turbomolecular; sistemas de controle de fluxo de gases e pressão.
Reator para tratamento de materiais por plasma (nitretação, carbonitretação e oxidação).
Três reatores para tratamento de polímeros e funcionalização de nanotubos por plasma.
Espectrômetro ótico de alta resolução para caracterização do plasma
Goniômetro automatizado
Oficina de apoio equipada com torno, furadeira de bancada, ferramentas, morsas, bancada para eletrônica.
Espectrofotômetro de fotoelétrons excitados por raios-X (XPS) para caracterização de filmes e superfícies (a ser instalado).
Medidor de propriedades elétricas pelo método de van der Pauw.
Computador exclusivo para simulações com processor Intel Core i5 3,20 GHz e 8,00 Gb de memória RAM.
Plasma de argônio confinado magneticamente em um sistema magnetron sputtering (alvo de titânio)
Plasma de argônio gerado por fonte de radio-frequência em baixa pressão.
Plasma de oxigênio
Reator para tratamento de nanotubos de carbono por plasma
Plasma gerado em reator de gaiola catódica
Descarga de barreira dielétrica em pressão atmosférica
Nitretação a plasma
Deposição de filmes por magnetron sputtering
Nitretação a plasma
Gaiola catódica
Plasma RF
Plasma RF
Underwater discharge
XPS
Microscópio ótico
Goniômetro
Medidas de propriedades elétricas pelo método de van der Pauw
ENDEREÇO
Rua Paulo Malschitzki, 200 Zona Industrial Norte, Joinville / SC CEP: 89.219-710
CONTATO
Telefone: (47) 3481-7900
E-mail: faleconosco.cct@udesc.br
Horário de atendimento: 07h às 19h
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